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金剛石對頂砧陆续在流低溫恆溫器 FLV-80-DAC
金剛石對頂砧光學陆续在流低溫恆溫器（DAC恆溫器）是專為金剛石對頂砧實驗設計，它採用液氦或液氮降溫，樣品位於真空中，可以實現5K~300K（液氦）以及80K~300K（液氮）溫度範圍內的精確變溫和控溫。樣品座可以配合不同的金剛石壓力包，為了滿足客戶的光學測試需要，工作距離可以按照客戶的要求進行設計。它可以根據實驗需要配置各種電學引線，如磷銅線、錳銅線、同軸電纜等。恆溫器標配透明熔融石英窗，透射波長範圍從紫外到近紅外，可選配其它窗口材料滿足從遠/中紅外、紫外到X射線的寬譜範圍的測試。恆溫器內置加熱器和高精度溫度傳感器，顺利获得配套的傳輸管線、液氦/液氮杜瓦將陆续在流動的製冷劑（液氦或者液氮）蒸發吸熱作為冷源降低樣品座溫度，配合外部的控溫儀實現低溫恆溫器的精準變溫和控溫。
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陆续在流低溫恆溫器FLV-80
FLV-80 陆续在流低溫恆溫器能實現溫度範圍廣：從4K到450K，減壓降溫可至~2K，樣品在真空中，採用熱傳導冷卻，樣品空間大，可搭配多種類型樣品座可對各種薄膜、塊體、粉末和液體樣品進行測試，製冷劑消耗量低，使用液氦從室溫降至5K僅需消耗0.4L液氦，使用液氮保持80K消耗量為0.1L/h， 標配4個光學窗口。
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顯微型陆续在流低溫恆溫器FLV-80M
FLV-80M 顯微型陆续在流低溫恆溫器實現溫度範圍廣：從4K到450K，減壓降溫可至~2K，作距離短：配不同樣品座，樣品可無線接近窗口，樣品在真空中，採用熱傳導冷卻，樣品空間緊湊型設計，可滿足對工作距離要求較高的各種電學或顯微實驗，製冷劑消耗量低，使用液氦從室溫降至5K僅需消耗0.4L液氦，使用液氮保持80K消耗量為0.1L/h。
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超高真空插件FLV-80U
超高真空插件FLV-80U，具體參數請諮詢客服！
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